综合媒体报道，日本和荷兰已原则上同意加入美国有关共同加强限制向中国出口先进芯片制造设备的管制措施。市场人士表示，这次DUV浸润式光刻机禁令虽用于14纳米，但业界广泛用于40纳米成熟制程到7纳米以下先进制程，美国成功号召荷兰与日本厂商加入限制行列，意味着中国40纳米以下设备都将很难取得。
在中国受到先进制程EUV光刻机管制下，“中芯国际”据报复制出台积电7纳米制程技术的消息震惊市场。市场猜测，“中芯”在技术上是采用DUV浸润式光刻机突破封锁管制令。
台湾东吴大学讲师林修民在本台《亚洲很想聊》节目中分析，中芯虽然不用EUV就号称做出7纳米，但是商业上不可行。因为使用比EUV落后一代的DUV需要多层的曝光，代表良率差、成本高，达不到商业量产化标准。当今世界光刻机三大制造商分别是荷兰的ASML(阿斯麦)、日本的Nikon(尼康)和Canon(佳能)，如果配合美国抵制围堵，对中国芯片发展冲击不小。
林修民：“DUV浸润式光刻机只能靠中国自己的。我听说，他们自己内部还停留在90纳米。非常遥远，那不是10年可以达到。”
《日本经济新闻》去年在中国国际半导体展访问一位来自上海的微电子装备工程师曾透露，“我们的主要光刻机是用于90纳米，而28纳米和14纳米在良率方面仍有改善空间。”上海微电子装备是中国唯一商用光刻机制造商。
林修民进一步说明，早在美国对华为祭出禁令后，中国半导体厂商就有了警觉，近几年拚命在市场抢购光刻机二手货。林修民预期，“问题在于，库存用罄后，才是他们(中国)真正考验的开始。”
除了光刻机外，从事IC设计产业几十年的林修民指出，芯片设计需要电子设计自动化(EDA)软体，这全都来自美国。在半导体制程中，许多营业秘密和专利都来自美国，台湾、日本只是美国的后继者。未来20年，中国半导体产业要威胁台湾甚至美国，“机率可能比中乐透头奖高一点。”
EUV和DUV禁令对中国的影响
台湾的资讯工业策进会资深产业顾问兼资深总监陈子昂在节目中，分别从先进制程和成熟制程不同角度指出，在先进制程方面，美国的禁令从10纳米以下往上提高至14纳米，这肯定限制中国发展先进制程。
“我们推估，到2025年，中国大陆的先进制程可能还是只占全球1%，台湾占比还是超过6成。所以就先进制程，中国威胁不了台湾。”陈子昂说道。
然而，在成熟制程方面，台湾却不能掉以轻心。根据陈子昂及其团队推估，全世界产能成长最快就是中国，预估两到三年内，中国良率提升；到了2025年，台湾成熟制程市占率会降到23-24%，中国也会提升到同样的水平。陈子昂提醒，“2025年大家要关心，成熟制程会不会有供过于求的疑虑。”
台积电海外设厂 不等于加速中国夺台
在节目中主持人提问，全球最大晶圆代工厂台积电陆续出走到海外，会否加速中共夺台企图？
陈子昂表示，所谓的“玉石俱焚”论是从中国网民和自媒体发出，因此不足以为惧。而且，台积电董事长刘德音接受访问时已经强调，玉石俱焚不会发生。陈子昂认为，“两岸领导人有一定的高度和智慧，不会让两岸擦枪走火。”
林修民指出，中共是讲求百分之百实力原则，中国始终有“攻台”意图，但是迟未动手，是深知拿下台湾会牵动区域地缘政治，甚至可能掀起第三次世界大战。他认为，美国对中国先进制程断供不只确保台湾安全，也在确保美军安全、日本安全。
